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NI PXI矢量网络分析仪,帮助半导体和移动设备制造商降低测试成本

发布日期:2012-12-25 浏览次数:0 我要评论(0) 字号:

新闻要点

•NI矢量网络分析仪(VNA)凭借其快速自动化测量、功能强大的仪器结构和经简化的测试系统开发过程,可降低测试成本。
•新的NI PXI Express模块集成了高级矢量网络分析仪的测量功能,形成基于PXI的测试系统,其中包括了高精度直流、高速模拟和数字测量等应用

2012年12月- 美国国家仪器公司(National Instruments, 简称 NI)近日发布了NI NI PXIe-5632 VNA,它经进一步优化,可帮助工程师满足日益复杂的射频测试要求,而其成本、尺寸和使用所需时间仅是传统堆叠式解决方案的极小一部分。 新的PXIe VNA基于创新型的双源架构,频率范围为300 kHz至8.5 GHz,拥有独立调整的源代码和源接入循环,可适用于众多不同的测量应用。

“NI在射频和微波仪器上持续大力投入,将PXI的应用领域扩大至高端应用。”NI射频研究和开发副总裁Jin Bains表示, “NI PXIe-5632矢量网络分析仪功能丰富,可显着降低网络测量成本,尤其是针对那些需要高度精确、快速和小封装测量的大批量自动化测试的应用。”

产品特征

•双端口,3槽PXI Express矢量网络分析仪,频率范围为300 kHz至8.5 GHz 。
•功率范围较宽,为-30dBm到+15 dBm,调节步长为0.01dB,用于测量有源设备的压缩和S-参数。
•带有源接入循环的双源架构,可实现脉冲S参数测量和扩展源功率范围。
•频偏功能使用独立调整的源代码,实现对频率转换器件和热S-参数的测量。
•通过NI LabVIEW、ANSI C和.NET等行业领先的编程接口,可简化编程并加快测试开发速度,同时保证射频测量质量。

欲知更多,请访问http://www.ni.com/vna/zhs/

关于NI
自1976年以来,美国国家仪器,简称NI (www.ni.com)一直致力于提供各种工具来帮助工程师和科学家提高效率、加速创新和探索。 NI的图形化系统设计方法为工程界提供了集成的软硬件平台,有助于加速测量和控制系统的开发。 长期以来,NI一直期望并努力通过自身的技术来改善社会的发展,确保客户、员工、供应商及股东获得成功。